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极大规模集成电路平坦化工艺与材料——河北工业大学刘玉岭教授成果展示

2013-11-22

随着微电子技术进入65nm及以下技术节点,集成电路布线层数已达10层以上,布线间介质使用Low K介质,每层都必须进行化学机械抛光(CMP),使平整度达到光刻要求,需要低机械强度(1Psi以下)完成CMP,实现表面全局和局部的高平整、低粗糙度、低缺陷密度和高洁净度。多年来我国在多层铜布线以及ULSI硅衬底单晶片CMP技术专用材料方面长期受美、日控制和制约,而且目前占国际市场65%以上的酸性抛光液存在急待解决的多项技术难题,如抛光液腐蚀设备、添加有毒、副作用大的增膜剂BTA(提高凸凹选择性)引起的速率低、布线膜易脱落、抛光液粘度大、加工后难清洗等问题,所以CMP关键材料抛光液成为目前微电子技术发展中的关键材料之一。

河北工业大学刘玉岭教授立足于国际该领域亟待解决的技术难题,研究低机械强度碱性抛光液CMP机理,验证碱性抛光液对CMOS器件的性能影响,并探索其对低K介质的性能影响;检测抛光液对设备的影响并进行设备优化;研究纳米磨料SiO2水溶胶粒径控制技术;研制低机械强度CMP碱性纳米抛光液;进行CMP碱性抛光液应用示范研究;研究半导体膜电化学清洗工艺并进行优化;探索CMP材料、工艺及半导体膜电化学清洗方法;进行新型碱性抛光液及清洗技术检测方法的研究,得到完善的65纳米及以下技术节点的碱性抛光液CMP工艺。

创新性成果

刘玉岭教授承担的重大专项项目极大规模集成电路平坦化工艺与材料研制出了多层铜布线系列碱性抛光液,拥有自主知识产权,经美国硅谷技术中心、台湾平坦化协会、中芯国际(北京)等研究机构和大生产线评估测试,被确认为适于企业生产要求的新型材料,dishingerosion、粗糙度、一致性、抛光速率、电参数等多项参数水平先进。

1碱性铜抛光液不含国际通用的有多种副作用的BTA,在CMP条件下对凹处铜有极好的自钝化作用,对凸处铜有很高的去除速率,具有较高的平坦化效率,可实现平坦化。

2碱性铜精抛液可稀释50倍,稀释倍数远高于控制国际市场的cabotfujimi等公司的酸性抛光液(稀释9倍),精抛液对阻挡层薄膜去除量趋于0,可有效去除残余铜,保障了铜互连线之间的可靠性。

3阻挡层抛光液无需加入国内外必须加的氧化剂和BTA,直接使用稳定性强对铜速率低,能够避免Dishing进一步增大;另一方面,对铜较高的选择性,使得阻挡层抛光时,碱性阻挡层抛光液有很强的修正能力,对图形片抛光的数据表明,可使dishing减少300Å以上,成为该抛光液极有价值的特性。

产业化前景

该项目的研发成功为65nm及其以下节点碱性抛光液产业化奠定了良好基础,项目承担单位正在与国内企业及研究所合作,以求尽快实现产业化。目前国际市场需求每年100亿以上,并呈逐年上升的趋势,年增长率为5%7%,国内市场总需求约1万吨,占世界份额5%,世界市场主要分布在美国、韩国、日本、台湾。力争尽快打开国内市场,打破高端产品完全靠进口的局面,并逐步打入国际市场。

刘玉岭教授简介

刘玉岭教授,男,博士生导师,第九、十届全国政协委员,国家有突出贡献的中青年专家,任美国电化学会亚洲分会CMP主席,“纳米电子技术”常务理事,河北工业大学微电子研究所所长,微电子学与固体电子学学科带头人,电子科学与技术博士后流动站主任,南开大学兼职教授,中航集团618研究所特聘技术专家,曾获全国高校、天津市科技先进工作者、河北高层次拔尖人才、河北省省管优秀专家、河北省十大发明家、天津市劳动模范等荣誉称号。

他先后承担和完成了30项国家、省部级重大项目,其中CMP机理模型与技术扩展应用到微电子衬底材料、蓝宝石、电子玻璃、航天制导材料研究、平面化加工等多项发明创造,取得重要研究成果。先后获国家发明奖5项,省部级科技发明与进步奖19项。拥有19项产品的知识产权4项专有技术

刘玉岭教授简介

刘玉岭教授,男,博士生导师,第九、十届、十一届全国政协委员,曾任中国洗净协会洗净新技术委员会理事长,美国电化学会亚洲CMP分会主席;“微纳电子技术”常务理事,海峡两岸平坦化论坛主席,国家自然科学基金会评审成员,南开大学兼职教授,河北工业大学微电子研究所所长,微电子学与固体电子学学中航集团618研究所特聘技术专家。主持国家科技中长期发展规划02重大专项前瞻性应用示范项目“集大规模集成电路平坦化工艺与材料”,化学机械超精密加工(CMP)多项参数达到或超过国际主流产品,实现了高性能、低成本;完成国家重点安全基金项目1项、国家及省部级科技支撑项目30余项、多项已实现产业化;获国家技术发明奖5项、省部级科技发明与进步奖科带头人,电子科学与技术博士后流动站主任,21项,国家科技成果重点推广计划2项,国家级新产品2项,国家发明专利44项、美国发明专利3项;发表论文200余篇,出版专著5部,培养博士后、博士、硕士研究生百余名。获国家级有突出贡献中青年专家,全国高校、天津市科技先进工作者,河北高层次拔尖人才,河北省资深省管优秀专家,河北省首届十大发明家,河北省后备院士,天津市劳动模范等荣誉称号,获全国政协第十一届五次会议优秀提案奖。