微电子学与固体电子学专家——刘玉岭教授

2010-12-20

微电子学与固体电子学专家——刘玉岭教授

刘玉岭，教授，博士生导师，国家级有突出贡献的中青年专家，河北工业大学微电子技术与材料研究所所长，微电子学与固体电子学学科带头人，河北工业大学电子科学与技术博士后流动站学术委员会主任，纳米电子技术与中国表面工程常务理事，全国高校科技先进工作者，河北省高层次拨尖人才，河北省省管优秀专家，河北省学位评审委员会专家、河北省十大发明家，天津市劳动模范，天津市先进科技工作者，第九、十、十一届全国政协委员。

七十年代，我国微电子技术与相关材料主要依赖进口，关键技术与材料受到制约和封锁，为打破封锁与制约。刘玉岭教授带领河北工业大学微电子研究所相关同志坚持创新发展，按需求进行研究开发和应用。对微电子技术中IC器件衬底硅单晶的切片、磨片、倒角、抛光、清洗，氧化、外延、扩散、制版、光刻、ULSI多层布线CMP、封装、测试等工序相关微电子技术基础理论及新技术、新材料进行了系统研究，尤其是影响微电子技术进一步发展的关键技术：ULSI衬底加工技术及材料，衬底表面吸附粒子去除技术及材料，金属杂质控制技术及螯合剂，完美器件工艺技术，薄层高阻硅外延技术，ULSI多层铜布线化学机械全局平面化（CMP）技术与抛光材料（2001年获天津市技术发明一等奖）、大粒径SiO2纳米硅溶胶生长与控制技术（15-120nm）等进行了深入的研究。他在半导体器件和超大规模集成电路的基础材料（如IC硅单晶衬底材料抛光与检测新技术及清洗材料；硅外延材料制备新技术；硅/硅材料键合新技术；硅单晶片新型抛光材料；IC衬底材料有害金属杂质与二次缺陷控制新技术及半导体材料在器件制备中的性能变化、晶闸管的造型优化与玻璃钝化、分立器件与大规模集成电路制备技术优化）等多种材料的更新换代、技术创新方面取得也多项重大发明成果。以上项目均达到国际领先或国际先进水平，并研制出系列产品及相关使用技术，取得了20多项创新成果。

多年以来，刘玉岭教授的技术及产品已在冀、京、津、沪、浙、苏、粤、豫、吉、辽、陕、鲁等十多个省、市引进的生产线上取代了美、日进口产品，实现了更新换代，创造效益近亿元，其中FA/O抛光液属于国家级新产品，并被国家科技部、国家劳动部、国家技术监督局、外国专家局、工商银行列为国家级科技成果重点推广计划，已在一些国家大型企业替代了美国、日本进口产品，并已开始进入国际市场。2001年，《电子清洗剂》被国家五部委（国家科技部、国家税务总局、外经贸部、国家质量监督检测检疫总局、国家环保总局）确定为国家级重点推广新产品。

目前，刘玉岭教授的研究技术已经扩展到照明工程衬底蓝宝石、微晶玻璃、电子玻璃、计算机硬盘基片、禁核爆条件下的金属、ULSI硅衬底登高新技术领域。他在国内外微电子制备技术及相关材料领域也具有一定的影响，被聘为台湾地区高级顾问，德国、法国公司正积极寻求技术合作，其“硅片无磨料抛光工艺技术研究”于1999年被国际经济评价（香港）中心评为世界华人重大科学技术成果。2005年与美国联合成立了中美合资高科技公司，将科研成果转化为生产力，产能8000余吨。

自参加工作以来，刘玉岭教授作为第一发明人获国家发明奖五项：1982年《FNO-MOS型抛光液》获国家发明四等奖；1987年《硅外延BC技术》获国家发明三等奖；1990年《硅器件衬底滑移线消除技术》获国家发明四等奖；1990年《FA/O无磨料均腐蚀抛光液》获国家发明三等奖；1999年《用化学方法提高固体表面光洁度》获国家发明三等奖。2003、2004年获国家发明专利三项。2005年获五项科研成果，其中三项在国际领先，一项国际先进，一项国内领先。2002年《ULSI多层铜布线纳米磨料CMP抛光液》获天津市技术发明一等奖共计获省部级发明奖、科技进步奖十九项，国家专利五项，九项获国内外发明展奖。2005年科研成果《FA/O半导体材料切削剂及技术》获天津市技术发明二等奖。

刘玉岭在国内外共发表技术论文一百多篇，编写了《实用发明创造工程学》、《压力传感器设计制造与应用》及《ULSI硅衬底性能加工与测试技术工程》、《微电子技术材料与测试工程》等独具特色的高校教材；共出版专著六部，其中2005年《微电子化学技术基础》、《洗净技术基础》专著两部。培养博士、硕士三十余名。创建了微电子技术与材料相结合的产学研创新实体及具有博士学位授予权的省级重点学科。